ÇùÀÇü ¼Ò°³

¹ÝµµÃ¼µð½ºÇ÷¹ÀÌÇùÀÇü

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Çѱ¹¹ÝµµÃ¼
µð½ºÇ÷¹À̱â¼úÇÐȸ

¹ÝµµÃ¼ ¡¤ µð½ºÇ÷¹À̱â¼úºÐ¾ßÀÇ ¼ÒÀç ¡¤ ºÎÇ° ¡¤ Àåºñ¿¡ °ü·ÃµÈ Çмú°ú ±â¼úÀÇ Á¤º¸±³È¯ ¹× ÇмúÈ°µ¿À» µµ¸ðÇÏ°í, ¾Æ¿ï·¯ »ê ¡¤ ÇÐ ¡¤ ¿¬ Çù·ÂÀ» ÃËÁøÇÔÀ¸·Î½á, »ê¾÷ ¹× °úÇбâ¼ú¹ßÀü¿¡ ±â¿©ÇÏ°í ȸ¿ø»óÈ£°£ÀÇ Ä£¸ñÀ» µµ¸ðÇÔÀ» ¸ñÀûÀ¸·Î ¼³¸³µÈ ºñ¿µ¸®¹ýÀÎÀ̸ç, ¼ÒÀç ¡¤ ºÎÇ° ¡¤ Àåºñ »ê¾÷ Áö¿øÀ» À§ÇØ °úÇбâ¼úÁ¤º¸Åë½ÅºÎ°¡ ±¹°¡¿¬±¸ÇùÀÇü(N-Team)À¸·Î ÁöÁ¤ÇÑ ¡°¹ÝµµÃ¼ ¡¤ µð½ºÇ÷¹ÀÌ ÇùÀÇü¡± ÁÖ°ü±â°üÀÔ´Ï´Ù.

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¹ÝµµÃ¼ ¡¤ µð½ºÇ÷¹ÀÌ»ê¾÷ °úÇбâ¼ú¹ßÀü¿¡ ±â¿©

  • Çмú°ú ±â¼ú Á¤º¸ ±³È¯

  • ±³À° ¹× ´ë¿Ü Çù·Â È°µ¿

  • Á¶»ç ¿¬±¸ ¹× ÀÚ¹®

  • ¿¬±¸Àå·Á ¹× Ä£¸ñµµ¸ð

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´ëÇѹα¹ ¹ÝµµÃ¼ ¡¤ µð½ºÇ÷¹ÀÌ»ê¾÷ À§»ó¿¡ °É¸Â´Â ¼ÒÀç ¡¤ ºÎÇ° ¡¤ Àåºñ ºÐ¾ß ¼¼°è ÃÖ°í ¼öÁØÀÇ ±â¼úÇÐȸ

  • »ê ¡¤ ÇÐ ¡¤ ¿¬ ¡¤ °ü Çù·Â °­È­
  • È°¹ßÇÑ Çмú È°µ¿ (³í¹®/Çмú´ëȸ/Æ÷·³)
  • ¿¬±¸Á¶»ç¹× ±â¼ú±³·ù °øÀ¯
  • ¼ÒÀÚ/ÆгΠ- ¼ÒÀç ¡¤ ºÎÇ° ¡¤ Àåºñ ºÐ¾ß°£ Çù¾÷ Áõ´ë
  • ±³À° È°¼ºÈ­ ¹× Á÷¹«´É·Â Çâ»ó
  • ¼­ºñ½º ´Ù¾çÈ­ (On & Off-line)
ÁÖ¿ä»ç¾÷
  • Çй®(³í¹®)Áö ¹ß°£ ¹× Çмú´ëȸ °³ÃÖ

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  • Á¶»ç ¡¤ ¿¬±¸ ¹× »ê¾÷ü ÀÚ¹® È°µ¿

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  • Academy ¡¤ Æ÷·³ ¹× ½ÉÆ÷Áö¿ò °³ÃÖ

    ÃֽŠ±â¼ú ¹× ½ÃÀ嵿Çâ Á¤º¸ °øÀ¯¸¦ ÅëÇÑ »ê ¡¤ ÇÐ ¡¤ ¿¬ ¡¤ °ü Çù·Â µµ¸ð

  • ¿¬±¸ Àå·Á ¹× ±³·ùȸ Ä£¸ñ µµ¸ð

    ¿ì¼ö ¿¬±¸ÀÚ Æ÷»ó ¹× È«º¸, ±³·ùȸ Ä£¸ñÀ» ÅëÇÑ ÀÚ±à½É °íÃë

±¹°¡¿¬±¸ÇùÀÇü(N-TEAM) : ¹ÝµµÃ¼ ¡¤ µð½ºÇ÷¹ÀÌ ÇùÀÇü
  • 1°³¿ä
    • Á¤ºÎ¿¡¼­´Â ¼ÒÀç ¡¤ ºÎÇ° ¡¤ Àåºñ ¿¬±¸°³¹ß ÅõÀÚÀü·« ¹× Çõ½Å´ëÃ¥ ¼ö¸³°ú ¼ö¿ä±â¹Ý ¼ÒÀç ¡¤ ºÎÇ° ¡¤ Àåºñ Çٽɱâ¼ú °³¹ß ¹× ÀÎÇÁ¶ó Áö¿øÀ» À§ÇØ ±â¼úºÐ¾ßº° ±¹°¡¿¬±¸ÀÎÇÁ¶ó(3N) ÁöÁ¤ ¹× ¿î¿µÃ¼°è¸¦ ±¸ÃàÅ°·Î ÇÔ
  • 2¸ñÀû
    • ¹ÝµµÃ¼ ¡¤ µð½ºÇ÷¹ÀÌºÐ¾ß ¼ÒÀç ¡¤ ºÎÇ° ¡¤ Àåºñ »ê¾÷ÇöÀå¿¡ ´ëÇÑ ¿¬±¸ Áö¿ø
  • 3ÇùÀÇü¸í
    • ¹ÝµµÃ¼ ¡¤ µð½ºÇ÷¹ÀÌ ÇùÀÇü
  • 4ÁÖ°ü±â°ü
    • Çѱ¹¹ÝµµÃ¼µð½ºÇ÷¹À̱â¼úÇÐȸ
  • 5ÁöÁ¤±â°ü
    • °úÇбâ¼úÁ¤º¸Åë½ÅºÎ
  • 6»ç¾÷±â°£
    • 2021³â 5¿ù 1ÀÏ ~ 2025³â 2¿ù 28ÀÏ (46°³¿ù)
  • 7ÁÖ¿ä³»¿ë
    • ±â¼ú ¾Ö·ÎÁö¿ø ¹× ÀÚ¹® / ±â¼úÀÌÀü ¹× È®»ê / ±â¼ú°æÀï·Â ºÐ¼®
    • ¼ÒÀç ¡¤ ºÎÇ° ÀåºñºÐ¾ß 100´ë ÇÙ½ÉÇ°¸ñ ÇöȲ °ü¸®
    • »ê¾÷ÇöÀå Á÷¹«´É·ÂÇâ»ó, Áö¿ªÆ¯È­»ê¾÷ Áö¿ø, ±Û·Î¹úÈ­ Áö¿ø
    • N-LAB, N-Facility ±×¸®°í À¯°ü±â°ü°úÀÇ À¯±âÀûÀÎ Çù·Â µî
  • 8ÇùÀÇü Á¶Á÷¹× 3N ¿¬°è

    ¹ÝµµÃ¼ ¡¤ µð½ºÇ÷¹ÀÌ ÇùÀÇü

    ÇùÀÇü »ç¹«±¹

    • ±â¼ú¾Ö·Î ¹× ÀÚ¹® Á¢¼ö ⱸ
    • È«º¸ ¹× Ç÷§Æû ±¸Ãà

    ÀÚ¹®À§¿ø

    • ±â¼ú¾Ö·Î ¹× ÀÚ¹® ÄÚµð³×ÀÌÅÍ
    • »ê¾÷ ¹× ½ÃÀå µ¿Çâ ¸ð´ÏÅ͸µ
    • ¼ÒÀçºÐ°ú

      • Wafer, PR, Gas, Slurry µî
      • ÇٽɼÒÀç ¹ß±¼ ¹× °æÀï·Â ºÐ¼®
      • »ê¾÷ÇöÀå Á÷¹«´É·ÂÇâ»ó Áö¿ø
      • »ê-»êÇп¬ Çù·Â È°¼ºÈ­
    • ºÎÇ°ºÐ°ú

      • Mask, Pump, Valve µî
      • ÇٽɺÎÇ° ¹ß±¼ ¹× °æÀï·Â ºÐ¼®
      • »ê¾÷ÇöÀå Á÷¹«´É·ÂÇâ»óÁö¿ø
      • »ê-»êÇп¬ Çù·Â È°¼ºÈ­
    • ÀåºñºÐ°ú

      • CVD, Etcher, Sputter µî
      • ÇٽɺÎÇ° ¹ß±¼ ¹× °æÀï·Â ºÐ¼®
      • »ê¾÷ÇöÀå Á÷¹«´É·ÂÇâ»óÁö¿ø
      • »ê-»êÇп¬ Çù·Â È°¼ºÈ­
    • ±âȹºÐ°ú

      • »ê¾÷ÇöÀå ±â¼ú¾Ö·Î ¹ß±¼ ±âȹ
      • ±â¼úÀÌÀü, ±â¼ú°Å·¡ È°¼ºÈ­
      • ¼º°ú ºÐ¼® ¹× È®»ê
      • À¯°ü±â°ü Çù·Â ¹× Á¤Ã¥ °ÇÀÇ
    • ¹ÝµµÃ¼ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ ¼ÒÀç ¡¤ ºÎÇ° ¡¤ Àåºñ ÇÙ½ÉÇ°¸ñ¿¡ ´ëÇÑ ±â¼úÀÚ¹® ¼ö¿ä ¹ß±¼¹× À¯°ü±â°ü°úÀÇ Çù¾÷À» ÅëÇÑ ÇØ°á
    • ¹ÝµµÃ¼ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ ¿¬°üµÈ N-Lab, N-Facility, Ÿ N-Team °úÀÇ Á¤º¸°øÀ¯ ¹× ¾Ö·ÎÁö¿ø

    N-LAB [±¹°¡¿¬±¸½Ç : ¹ÝµµÃ¼ & µð½ºÇ÷¹ÀÌ]

    • ¼ÒÀÚ/ÆгÎ
    • ¼ÒÀç
    • ºÎÇ°
    • Àåºñ
    • ETRI
    • È­Çп¬
    • ±â°è¿¬
    • Ç¥ÁØ¿¬

    N-Facility [±¹°¡¿¬±¸½Ã¼³ : ¹ÝµµÃ¼ & µð½ºÇ÷¹ÀÌ]

    • Çѱ¹³ª³ë±â¼ú¿ø
      ³ª³ëÁ¾ÇÕ±â¼ú¿ø
    • ¼­¿ï¹ÝµµÃ¼
      °øµ¿¿¬±¸¼Ò
    • ³ª³ë±â¼ú
      ÁýÀû¼¾ÅÍ

    N-TEAM : ¹ÝµµÃ¼ & µð½ºÇ÷¹ÀÌ ¼ÒÀçºÎÇ°Àåºñ ±¹°¡¿¬±¸ÇùÀÇü [Çѱ¹¹ÝµµÃ¼µð½ºÇ÷¹À̱â¼úÇÐȸ]

    »ê¾÷ü

    • ¼ö¿ä±â¾÷

      µð½ºÇ÷¹ÀÌ
      [SDC, LGD]

      ¹ÝµµÃ¼
      [»ï¼º, SKH]

    • °ø±Þ±â¾÷

      ¼ÒÀç
      [µ¿Áø½ê¹ÌÄÍ µî]

      ºÎÇ°
      [¿¤¿ÀƼº£Å¨ µî]

      Àåºñ
      [¿øÀÍIPS µî]

    ±¹°¡¿¬±¸ÇùÀÇü [N-TEAM] : Ç°¸ñ Áß½É

    • ¼ÒÀç

      Photoresist
      ºÒÈ­¼ö¼Ò
      Åõ¸í Æú¸®ÀÌ¹Ìµå µî

    • °ø±Þ±â¾÷

      Áø°øÆßÇÁ ¹× ¹ëºê
      ESC & È÷ÅÍ
      ±¤Çм¾¼­ µî

    • Àåºñ

      ¼¼Á¤/½Ä°¢ Àåºñ
      CVD/ALD Àåºñ
      °èÃø & °Ë»ç Àåºñ

    ¿ä¼Ò±â¼úº° ÇÐȸ (Áø°ø, ¼¼¶ó¹Í µî), KTTAA, °¢ ´ëÇÐ TLO µî

    µð½ºÇ÷¹ÀÌÇùȸ / Á¶ÇÕ, ¹ÝµµÃ¼Çùȸ / Á¶ÇÕ, TP : »ê¾÷°è ¿¬°è µî

  • 9Áö¿øºÐ¾ß ¹× Áö¿ø³»¿ë
    • ¹ÝµµÃ¼ ¹× µð½ºÇ÷¹ÀÌ ¼ÒÀç ¡¤ ºÎÇ° ¡¤ Àåºñ °ü·Ã ºÐ¾ß
    • ¼ÒÀç

    • ºÎÇ°

    • Àåºñ

    • Áö¿ø³»¿ë
      • ¨ç ±â¼ú ¾Ö·Î »çÇ× ÆÄ¾Ç ¹× Áö¿ø ¹× ÀÚ¹®, ±â¼úÀÌÀü ¹× È®»ê
      • ¨è ¼ÒÀç ¡¤ ºÎÇ° ¡¤ Àåºñ ÇÙ½ÉÇ°¸ñ ±â¼ú°æÀï·Â ºÐ¼®
      • ¨é »ê¾÷ÇöÀå Á÷¹«´É·ÂÇâ»ó ¹× ±Û·Î¹úÈ­ ¿ª·® Áõ´ë Áö¿ø
      • ¨ê N-Lab, N_Facility ¹× À¯°ü±â°ü°úÀÇ À¯±âÀûÀÎ Çù·Â µî
      • ¨ë ¼ÒºÎÀå °ü·Ã Á¤º¸°øÀ¯ È°¼ºÈ­
  • 10±â¼úÀÚ¹® Áö¿ø ÀýÂ÷

    ¹ÝµµÃ¼ & µð½ºÇ÷¹ÀÌ ¼ÒÀç ¡¤ ºÎÇ° ¡¤ Àåºñ Database ±¸Ãà : ¼³¹® ¹× ¹æ¹®À» ÅëÇØ DB ±¸Ãà

    ±¸ºÐ ÁÖ·ÂÁ¦Ç° °ü·Ã±â¼ú ÀÚ¹® ¹× ±â¼úÀÌÀü Èñ¸Á±â¼ú Àü¹®°¡ ±×·ì
    Aȍ
    • ¡¤ ¹ÝµµÃ¼
    • ¡¤ CMP ½½·¯¸®
    • ¡¤ Nano-crystalline abrasive ÇÕ¼º ±â¼ú
    • ¡¤ CMP ½½·¯¸® Á¦Á¶±â¼ú (ºÐ»êÁ¦, Ã˸ÅÁ¦µî)
    • ¡¤ Ã˸ÅÁ¦ ¼³°è ±â¼ú
    • ¡¤ ºÐ»ê °øÁ¤±â¼ú
    ÇѾç´ë ¹ÚÀç±Ù ±³¼ö
    (parkjgl@hanyang.ac.kr)
    Bȍ
    ±¸ºÐ A»ç B»ç
    ÁÖ·ÂÁ¦Ç°
    • ¡¤ ¹ÝµµÃ¼
    • ¡¤ CMP ½½·¯¸®
    °ü·Ã±â¼ú
    • ¡¤ Nano-crystalline abrasive ÇÕ¼º ±â¼ú
    • ¡¤ CMP ½½·¯¸® Á¦Á¶±â¼ú (ºÐ»êÁ¦, Ã˸ÅÁ¦µî)
    ÀÚ¹® ¹× ±â¼úÀÌÀü Èñ¸Á±â¼ú
    • ¡¤ Ã˸ÅÁ¦ ¼³°è ±â¼ú
    • ¡¤ ºÐ»ê °øÁ¤±â¼ú
    Àü¹®°¡ ±×·ì ÇѾç´ë ¹ÚÀç±Ù ±³¼ö
    (parkjgl@hanyang.ac.kr)
    • ¼ÒÀçºÎÇ°Àåºñ ±¹°¡ ÇÙ½É 100´ë Ç°¸ñ + 85°³ Ç°¸ñ(Ãß°¡) ÁöÁ¤

      - ¿î¿µÀ§¿øȸ ¹× ºÐ°úÀ§¿øȸ¿¡¼­ °áÁ¤

      • Á¤ºÎ R&BD »ç¾÷ Ãßõ

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    • ±â¾÷º° ±â¼ú ÀÚ¹® ¹× ÀÌÀü ¼ÒÀçºÎÇ°Àåºñ Ç°¸ñ ¹ß±¼ ¹× ½ÃÇà

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    • ¹Ý±âº° ±â¾÷º° ±â¼ú ÀÚ¹® ¹× ÀÌÀüÁøÇà ÇöȲÆÄ¾Ç ¹× ºÐ¼®

      - ºÐ°úÀ§¿øȸ¿¡¼­ ¿î¿µÀ§¿øȸ º¸°í ÈÄ °³¼± Ç׸ñ ÆÄ¾Ç ¡¤ ÁøÇà

    • Á¤ºÎ R&BD »ç¾÷ Ãßõ

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¹ÝµµÃ¼µð½ºÇ÷¹ÀÌÇùÀÇü